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    1

    於白金及銅基電極上濺鍍製備非晶鈧酸鈥薄膜性質之研究
    • 應用科技研究所 /98/ 碩士
    • 研究生: 林定言 指導教授: 朱 瑾
    • 本研究主要為利用射頻磁控濺鍍法製備氧化物薄膜(HoScO3,鈧酸鈥)於Pt/Ti/SiO2/Si,Cu(ReNx)/Ti/SiO2/Si及Cu(RuNx)/TaN/SiO2/Si不同基板上並且探討鈧…
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    • 全文公開日期 2015/07/27 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

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    以射頻磁控濺鍍法沉積鈦酸鋇薄膜及其性質分析
    • 應用科技研究所 /98/ 博士
    • 研究生: 吳政惠 指導教授: 朱瑾
    • 本研究利用傳統固態反應法並藉由添加不同混合比例的氧化鑭 (La2O3) 或氧化釤 (Sm2O3) 製備含鑭及含釤之鈦酸鋇靶材,主要以添加物的混合莫爾比例來區分,依序為1%La、3%La、5%La、7…
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